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11日，Aresis China主办的 “1μm线宽/间隔电极制作工艺 ”技术培训举行。此次培训吸引了来自东北师大、南京工业大学、中国农业大学、中国电力研究所、沈阳自动化研究所、上海交通大学、西安交通大学、天津大学、北京航空航天大学、济南大学等多所院校的师生及北京恒三江、重庆盛科纳、安徽泽攸科技等科技公司的技术人员的参与。 培训围绕着1μm线宽和1μm间隔电极制作工艺展开，无掩膜激光直写光刻机厂家miDALIX的资深技术工程师着重分享了该工艺涉及的各种知识：什么是光刻，如何选择光刻胶，软光刻技术的实现要求，工艺实现的前期准备、电极设计与精确对准、曝光的质量控制及注意事项、显影的质量控制与注意事项等等。而本次培训的合作公司则分享了真空制膜技术、蒸镀设备与蒸镀方法、用扫描电镜检验蒸镀结果等内容。可以说，本次培训完整地呈现了电极制作的整个使用过程，将操作雷点一一指出，并告知原因和解决方案，对使用者提高lift-off的成功率很有帮助。
DaLI无掩膜纳米光刻机220nm间隔蒸镀后的电极展示
1μm线宽电极展示（DaLI无掩膜纳米光刻机） 培训接近尾声，Aresis China还组建了技术分享与答疑群，分享培训会中未详尽之处，也给有疑问的与会者提供了一个提问与答疑的平台。与会者纷纷加群，与Aresis China建立了更进一步的联络。 据悉，光刻技术培训/分享会将持续开展，另有光镊应用培训/分享会也将展开，如有意愿参加的老师和同学可以联系Aresis China，联系方式：
Tel：010-62716680
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