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4月22日，Aresis China兄弟公司miDALIX的技术总监Anze Jeric将应邀在山东大学物理学院进行一次主题为“超稳定无掩膜纳米光刻技术”的宣讲会。欢迎对光刻技术感兴趣的老师和同学们届时参加。
主讲人：Anze Jeric
公司：Aresis China |艾锐斯科技（北京）有限公司
时间：4月22日 上午9:00
地点：物理学院 离子束会议室
邀请人：王磊 副教授
摘要：
1. 光刻技术及其应用的简单介绍。
2. 超稳定无掩膜纳米光刻机的技术实现：如何将纳米级超高精度激光定位技术引入光刻机的设计实践，如何更好的操控直写光源，其它部分设计与纳米级超高精度激光定位技术的配合。
3. 超稳定无掩膜纳米光刻技术在实际应用中的优势：结构平滑度，定位精准度，套刻精准度，稳定度保证等。
4. 使用超稳定无掩膜纳米光刻技术设备过程中需要注意的关键问题。
5. 其它用户友好设计与该技术的主要应用领域。
6. 典型应用实例展示。
典型产品：DALI高分辨无掩膜纳米光刻机
主要特点
最小特征结构可小达1μm
对I-line光刻胶进行优化（SU-8，AZ，……）
超快不超高精度定位，定位分辨率＜1nm
适用于从CAD设计到各种结构的快捷构建
用户友好的单应用界面
具备自劢对焦机制不离焦直写模式
内建显微镜可用于样品定位
具备非平表面直写能力
可构建高深宽比结构（可达10:1）
独有的光斑间距调节功能以获得超高平滑度的结构
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